主要特征
全面的设计分析以进行优化
Calibre cmPanalyzer 工具允许设计人员使用仿真结果直观地突出显示和检查各种 CMP 效果。设计人员可以逐层检查这些结果,也可以检查布局中选定区域的结果。他们还可以查看指定的 CMP 热点检查,例如对焦深度检查。
优化填充
自动确定最佳灌装策略
Calibre cmPanalyzer工具使用来自仿真器的厚度仿真数据,确定最佳的填充策略,并将信息传递给Calibre YieldenHancer工具。精确的仿真数据和创新的 Calibre 填充算法相结合,提高了参数产量,同时最大限度地减少了增加的电容。

影响的可视化 Visualit
CMP 影响的可视化显示可加快分析速度
CMP仿真器向Calibre Calibre Calizer工具提供的数据使设计人员能够直观地突出显示和检查各种CMP效果。设计人员可以逐层检查这些结果,也可以检查布局中选定区域的结果。他们还可以查看指定的 CMP 热点检查,例如对焦深度检查。

改进了时序验证
集成以改进建模
Calibre cmPanalyzer工具集成了Calibre xRC寄生提取技术,可创建互连参数的综合三维模型,使其更接近硅结果。Calibre xRC工具可以准确地考虑整个设计中的厚度变化,从而使设计人员能够使用这些信息来验证时机。

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