Các công cụ Calibre Mask Data Preparation (MDP) cho phép chuyển đổi và xác minh định dạng dữ liệu mặt nạ để chế tạo mặt nạ bao gồm các định dạng mặt nạ đa chùm mới nhất trong nền tảng Calibre hoàn toàn tương thích.
Các sản phẩm Calibre Mask Data Preparation là một phần của nền tảng Calibre tích hợp, cho phép bạn hoàn thành tất cả các tác vụ xử lý nâng cao độ phân giải và chuyển đổi định dạng dữ liệu mặt nạ trong một lần chạy lô chế tạo mặt nạ bằng một ngôn ngữ điều khiển duy nhất với hiệu suất tốt nhất trong phân khúc.
Xuất khẩu mặt nạ tạo dữ liệu trực tiếp sang định dạng viết mặt nạ mục tiêu mà không cần thay đổi công cụ hoặc tạo các tệp trung gian lớn. Các định dạng được hỗ trợ bao gồm MEBES, JEOL, Micronic, NuFlare VSB và MBF, OASIS.MASK và OASIS.MBW.
Kiểm tra dữ liệu ghi mặt nạ cuối cùng so với định nghĩa GDSII hoặc OASIS ban đầu. Nó hỗ trợ theo dõi các bản cập nhật thiết kế bằng cách xác nhận sự hiện diện của những thay đổi trong dữ liệu mặt nạ cuối cùng.
Cho phép xem xét nhanh chóng và dễ dàng dữ liệu thiết kế ở định dạng GDSII và OASIS, cũng như trong tất cả các định dạng mẫu máy ghi mặt nạ phổ biến và tập hợp dữ liệu thông qua các bộ công việc tương ứng.
Giảm chi phí mặt nạ và thời gian ghi mặt nạ bằng cách giảm tổng số lần chụp thông qua xử lý trước tiên tiến của dữ liệu bị gãy.
Cho phép hợp nhất chip chÉO có khả năng mở rộng cao cho đứt gãy NuFlare VSB11.
Mở rộng bộ ngôn ngữ lập trình tCL có sẵn trong Calibre MDPView với các chức năng chuyên dụng hỗ trợ trích xuất và xác nhận các vị trí thích hợp cho đo lường mặt nạ.