Calibre NMCloPC cho phép dòng OPC đường cong ILT lai tạo ra chất lượng in thạch bản yêu cầu với thời gian chạy nhanh hơn so với giải pháp ILT đầy đủ. Dòng chảy này có thể được sử dụng để tạo ra mặt nạ đường cong cần thiết cho Silicon Photonics, hoặc cho các thiết kế thẳng cho logic hoặc bộ nhớ.

Mô hình lõi Calibre OPC có thể mô hình chính xác hiệu ứng trường điện từ 3D của mặt nạ cho mặt nạ đường cong. Việc sử dụng các đường viền SEM để hiệu chuẩn mô hình cho các mẫu đường cong cho phép nó mô tả hành vi thực tế trên wafer. Công nghệ Calibre NMCloPC tiên tiến tối đa hóa quyền in thạch bản và đạt được độ chính xác OPC cần thiết.