Máy ghi mặt nạ đa chùm (MBMW) cho phép sử dụng các hình dạng đường cong lý tưởng cho mặt nạ in thạch bản nghịch đảo (ILT), nhưng các định dạng bố cục hiện tại không đủ để thể hiện các thiết kế ILT phức tạp một cách hiệu quả từ hiệu chỉnh tiệm cận quang học (OPC) thông qua việc tạo mặt nạ. Vào năm 2019, chúng tôi đã khởi xướng một nhóm làm việc về định dạng dữ liệu để giải quyết nhu cầu biểu diễn dữ liệu đường cong cho MBMW. Nhóm làm việc Định dạng Dữ liệu Đường cong có các thành viên từ các công ty EDA và các nhà sản xuất mặt nạ tiên tiến. Trong bài báo này, sự cần thiết của một định dạng dữ liệu đường cong mới và các mục tiêu của nhóm làm việc của chúng tôi sẽ được giới thiệu. Chúng tôi sẽ thảo luận về tiến độ và kế hoạch của nhóm làm việc. Một phiên bản của bài báo này đã được trình bày tại hội nghị IEEE SPIE vào năm 2021 và được xuất bản trong kỷ yếu hội nghị.



