Calibre IC Manufacturing Giải pháp

Một giải pháp đầu cuối hoàn chỉnh bao gồm tất cả các bước chuẩn bị dữ liệu đường cong từ nhắm mục tiêu lại đến SRAF, OPC, MPC và MDP giải quyết nhu cầu tạo mặt nạ đường cong của các ứng dụng đặc biệt (SiPH) và thiết kế bộ nhớ.

Hỗ trợ công nghệ cho các quá trình quang học, bao gồm cả tia cực tím cực tím (EUV). Các công cụ in thạch bản tính Calibre cung cấp độ chính xác, tốc độ và giảm chi phí sở hữu.

Cho phép chuyển đổi định dạng dữ liệu mặt nạ và tác vụ xác minh để chế tạo mặt nạ bao gồm các định dạng mặt nạ đa chùm mới nhất trong nền tảng Calibre hoàn toàn tương thích.

Cung cấp các tối ưu hóa cho người viết mặt nạ e-beam. Khả năng chỉnh sửa và mô hình hóa mới cải thiện tính tuyến tính và tính đồng nhất kích thước quan trọng của mặt nạ cho các nút nâng cao.

Đáp ứng những thách thức về thông lượng sản xuất và quản lý sử dụng hệ thống trong khi đạt được thời gian quay vòng nhanh mặc dù độ phức tạp và khối lượng dữ liệu ngày càng tăng.

Cải thiện năng suất sản phẩm và cung cấp tốc độ nhanh hơn bằng cách cấu trúc và phân tích một lượng lớn dữ liệu, tạo các mô hình học máy dự đoán và tạo ra các phân tích có thể thực hiện được.

Calibre cung cấp giải pháp cơ sở hạ tầng luồng hoàn chỉnh cung cấp thời gian chạy và tính nhất quán vượt trội để đáp ứng các yêu cầu sản xuất của các thiết bị bộ nhớ và sản phẩm với các mảng lặp đi lặp lại cao.

Bộ công cụ Calibre DFM bao gồm các công cụ phân tích năng suất, khả năng in và xác nhận hiệu suất để nâng cao năng suất và tối ưu hóa thiết kế vi mạch.