Quản lý dữ liệu kỹ thuật cho đóng gói IC (EDM-P) là một khả năng tùy chọn mới cung cấp kiểm soát sửa đổi nhận/trả phòng cho cơ sở dữ liệu i3D và XPd. EDM-P cũng quản lý tệp “ảnh chụp nhanh” tích hợp cũng như tất cả các tệp nguồn IP thiết kế được sử dụng để xây dựng một thiết kế như CSV, Verilog, Lef/Def, GDSII và OASIS. Sử dụng EDM-P cho phép các nhóm thiết kế cộng tác và theo dõi tất cả thông tin và dữ liệu meta cho các thư mục và tệp Dự án ICP. Nó cho phép nhóm thiết kế xác minh chính xác các tệp nguồn nào đã được sử dụng trong thiết kế trước khi nó được dán ra để loại bỏ lỗi.

Có gì mới trong Bao bì bán dẫn 2504
2504 là bản phát hành toàn diện thay thế bản cập nhật 2409 và 2409 #3. 2504 bao gồm các tính năng/khả năng mới sau trên Innovator3D IC (i3D) và Xpedition Package Designer (XPd).
Có gì mới trong Innovator3D IC 2504 update 1
2504 Update 1 là một bản phát hành toàn diện thay thế các bản phát hành cơ bản 2504 và 2409 và tất cả các bản cập nhật tiếp theo của chúng. Tải xuống tờ thông tin đầy đủ để tìm hiểu thêm về các tính năng mới nhất trong bản cập nhật này.

Innovator 3D IC 2504 Cập nhật 1
Tính toán mật độ kim loại đã được giới thiệu trong bản phát hành cơ bản 2504. Bản cập nhật này bao gồm tính toán trung bình cửa sổ trượt được sử dụng để dự đoán độ cong vênh gói.
Với khả năng này, bạn có thể kiểm tra mật độ kim loại trung bình trên khu vực thiết kế để xem nên thêm hoặc loại bỏ kim loại ở đâu để giảm thiểu nguy cơ cong vênh bề mặt.
Tùy chọn mới này cho phép nhà thiết kế đặt kích thước cửa sổ và bước lưới. Người dùng cũng có thể chọn chế độ gradient có thể được sử dụng với bản đồ màu tùy chỉnh để có được màu gradient được tự động nội suy giữa các màu cố định trong bản đồ màu của bạn.
Đây là một phần của việc sử dụng sơ đồ mặt bằng như một khuôn ảo, bạn có thể khởi tạo theo thứ bậc lên một sơ đồ tầng khác. Trong quá trình nhập Lef/Def, bây giờ bạn có thể chọn tạo giao diện để làm điều đó.
Bây giờ chúng tôi có chức năng “Thêm thiết kế khuôn mới” để tạo VDM (Mô hình khuôn ảo) dựa trên mặt phẳng sàn. VDM dựa trên sơ đồ tầng mới có nhiều luồng và có hiệu suất cao hơn nhiều đối với khuôn lớn.
Ban đầu được phát hành với bản phát hành 2504, chúng tôi đã xuất Interposer Verilog và Lef Def để điều khiển các công cụ IC Place & Route như Aprisa với mục đích định tuyến các bộ phận xen silicon bằng cách sử dụng PDK của xưởng đúc.
Trong bản phát hành này, chúng tôi đã tiến thêm một bước nữa trong việc cung cấp IC P&R Lef/Def/Verilog cấp Thiết bị.
Điều này rất có giá trị nếu bạn có cầu silicon hoặc bộ xen silicon trong thiết kế của mình và cần định tuyến nó bằng công cụ IC P & R với PDK được cung cấp bởi xưởng đúc.
Để thực hiện việc này, bạn muốn đi đến định nghĩa thiết bị cầu silcon bridge/interposer và xuất LEF với các định nghĩa padstack và DEF với các chân làm phiên bản của các padstack đó và Verilog với các cổng “Tín hiệu chức năng” được kết nối bằng mạng nội bộ và chân được biểu diễn dưới dạng các phiên bản mô-đun.
Trong bản phát hành này, chúng tôi đã thêm các khả năng và hỗ trợ GUI cho việc này: Chọn hộp kiểm “Xuất dưới dạng định nghĩa padstack”.
Bạn có thể cung cấp danh sách các lớp mà bạn muốn xem trên macro và kiểm soát tên của pin đã xuất.
Vào năm 2504, chúng tôi đã phát hành bước đầu tiên trong việc tạo kế hoạch phác thảo tự động của chúng tôi.
Trong bản phát hành này, chúng tôi hình thành các cụm pin một cách thông minh và kết nối chúng với phía tối ưu của khuôn để thoát ra với kế hoạch phác thảo.
Kiến trúc phân cụm nâng cao
- Thực hiện phương pháp tiếp cận phân cụm hai giai đoạn tinh vi
- Nâng cao tổ chức pin thông qua phân tích thành phần kép (nguồn và đích)
- Cơ chế phát hiện và lọc ngoại lệ thông minh
Điều này mang lại kết quả phân cụm pin chính xác và hợp lý, dẫn đến cải thiện hiệu quả và ít điều chỉnh thủ công hơn.
Tính toán điểm bắt đầu/kết thúc cho kế hoạch phác thảo:
Những cải tiến đáng kể được thực hiện đối với cách các kết nối được lập kế hoạch giữa các thành phần, làm cho chúng tự nhiên và hiệu quả hơn.
Một số tính năng chính để tạo bản phác thảo trong bản phát hành này bao gồm:
- Sử dụng hình dạng dựa trên mẫu của các nhóm pin thay vì chỉ hình chữ nhật
- Xử lý các mẫu nhóm pin không đều
- Tạo các điểm kết nối tại điểm bắt đầu và điểm cuối của sơ đồ phác thảo bằng cách thoát ra ngoài đường viền thành phần
Tìm điểm kết nối tốt nhất
- Có tính đến hình dạng được hình thành bởi các nhóm ghim
- Định vị nơi hình dạng đến gần cạnh của đường viền thành phần nhất
- Chọn vị trí tốt nhất sẽ đưa ra con đường ngắn nhất có thể
Phát hành Innovator3D IC 2504
i3D hiện nhập và xuất các tệp 3Dblox chứa một tập hợp gói hoàn chỉnh hỗ trợ cả ba giai đoạn dữ liệu (Blackbox, Lef/Def, GDSII). i3D cũng có thể tạo và chỉnh sửa dữ liệu 3Dblox cho phép nó thúc đẩy hệ sinh thái thiết kế, phân tích và xác minh hạ nguồn. Nó có trình gỡ lỗi tích hợp có thể xác định các vấn đề cú pháp 3Dblox trong quá trình đọc 3Dblox, rất hữu ích khi xử lý các tệp 3Dblox của bên thứ 3.
Để cho phép lập kế hoạch và phân tích dự đoán mang lại kết quả khả thi hơn, chúng tôi đã giới thiệu một số khả năng mới như tạo mẫu điện và mặt phẳng mặt đất và khả năng nhập Định dạng nguồn hợp nhất (UPF) để cho phép phân tích SI/PI và nhiệt chính xác hơn. Với việc thử nghiệm là một thách thức lớn trong tích hợp không đồng nhất đa chip, chúng tôi đã tích hợp khả năng đa khuôn của Tessent để thiết kế hoạch thử nghiệm (DFT).
Giờ đây, các nhà thiết kế có thể phân tích mật độ kim loại trên thiết bị và sơ đồ mặt bằng, cho phép phát triển các mô hình va chạm giúp giảm thiểu sự cong vênh và ứng suất. Hàm báo cáo mật độ theo số lượng cũng như trong các đồ thị chồng lên nhau. Các nhà thiết kế có thể điều chỉnh độ chính xác để đánh đổi độ chính xác so với tốc độ.
Một trong những mục tiêu chính của trải nghiệm người dùng mới được giới thiệu vào năm 2409 là nâng cao năng suất của nhà thiết kế. Là một phần của điều đó, chúng tôi đang giới thiệu các lệnh dự đoán dựa trên AI, tìm hiểu cách người dùng thiết kế và dự đoán lệnh mà họ có thể muốn sử dụng tiếp theo.
Khi các gói nâng cao trở nên lớn hơn, kết hợp nhiều Mạch tích hợp ứng dụng cụ thể (ASIC), chip và Bộ nhớ băng thông cao (HBM), kết nối tăng lên đáng kể khiến các nhà thiết kế khó tối ưu hóa kết nối đó để định tuyến. Tối ưu hóa kết nối đã có sẵn trong bản phát hành đầu tiên của Innovator3D IC, nhưng nó sớm trở nên rõ ràng rằng các thiết kế đã vượt xa khả năng của nó. Điều này dẫn đến việc thiết kế cơ bản của một công cụ tối ưu hóa mới có thể xử lý sự phức tạp mới nổi của các thiết kế, bao gồm cả các cặp vi sai.
Chế độ xem sơ đồ mặt bằng 3D hiện có là cách dễ nhất để xác minh thiết bị và xếp lớp của thiết kế của bạn. Giờ đây, việc xác minh trực quan việc lắp ráp thiết bị của bạn trở nên dễ dàng hơn với điều khiển độ cao trục z mới. Điều này có tính đến loại thành phần, hình dạng ô, lớp xếp chồng, định hướng và định nghĩa ngăn xếp phần.
Bản phát hành Xpedition Package Designer 2504
Tiếp tục cải thiện hiệu suất chỉnh sửa tương tác trong các kịch bản phát triển phần mềm được nhắm mục tiêu:
- Di chuyển các dấu vết góc kỳ lạ trên lưới lớn - Nhanh hơn tới 77%
- Theo dõi chuyển động phân đoạn trở lại vị trí ban đầu sau khi theo dõi đẩy - nhanh hơn tới 8 lần
- Bus theo dõi kéo bao gồm các dấu vết che chắn mạng khổng lồ - nhanh hơn tới 2 lần
- Đánh bóng dấu vết mạng khổng lồ - nhanh hơn tới 10 lần
- Chỉnh sửa tương tác của mạng lưới đơn đặt hàng bắt buộc trên thiết kế bao bì lớn khi kích hoạt độ thanh toán chủ động - nhanh hơn tới 16 lần
Thông thường phân tích chi tiết, chẳng hạn như mô hình điện từ 3 chiều (3DEM), chỉ được yêu cầu trên một khu vực cụ thể của thiết kế. Việc xuất ra toàn bộ thiết kế tốn thời gian và thường có thể chậm. Khả năng mới này cho phép xuất các khu vực thiết kế bố cục được chỉ định yêu cầu mô phỏng hoặc phân tích, làm cho việc trao đổi thông tin giữa bố cục và HyperLynx hiệu quả hơn.
Giờ đây, các nhà thiết kế có thể lọc ra các thành phần eDTC từ các tệp ODB++ được tạo được sử dụng để chế tạo chất nền.
Tải về bản phát hành
Lưu ý: Sau đây là bản tóm tắt ngắn gọn về các điểm nổi bật của bản phát hành. Khách hàng của Siemens nên tham khảo những điểm nổi bật về phát hành trên Trung tâm hỗ trợ để biết thông tin chi tiết về tất cả các tính năng và cải tiến mới.