Корекція процесу маски (MPC) для криволінійних конструкцій
Calibre nmclMPC виконує корекцію процесу маскування (MPC) для макетів введення з криволінійними багатокутниками, наприклад, створеними OPC за допомогою технології зворотної літографії (ILT), а також кремнієвих фотонних структур.
Інноваційна фрагментація на основі кривизни
Фрагментація на основі кривизни в механізмі Calibre NMCLMPC визначає довжину фрагмента краю на основі локальної кривизни та забезпечує вихід, можливий для криволінійної корекції MPC. Ця функція намагається спільно оптимізувати розмір файлу, точність та час виконання для виправлення процесу криволінійної маски.
Варіант досягнення швидкої конвергенції
Calibre NMCLMPC можна використовувати з попереднім зміщенням на основі кривизни, щоб забезпечити швидку конвергенцію для криволінійного MPC. Метод попереднього зміщення на основі кривизни зменшує кількість необхідних ітерацій, не погіршуючи точність корекції та економить час виконання.
Можливість одночасної корекції
Calibre NMCLMPC може виправляти криволінійні та прямокутні форми за один пробіг, застосовуючи ті самі правила, що й у стандартному рецепті для прямокутних фігур.
Готові дізнатися більше про Calibre?
Ми готові відповісти на ваші запитання! Зв'яжіться з нашою командою вже сьогодні
Телефонуйте: 1-800-547-3000
Консультаційні послуги Calibre
Ми допомагаємо вам прийняти, розгорнути, налаштувати та оптимізувати складні середовища проектування. Прямий доступ до інженерії та розробки продуктів дозволяє нам скористатися глибокими доменними та предметними знаннями.
Центр підтримки
Центр підтримки Siemens надає вам все в одному зручному місці -
база знань, оновлення продуктів, документація, справи підтримки, інформація про ліцензії/замовлення тощо.
Дизайн та виготовлення мікросхем Calibre
Набір інструментів Calibre забезпечує точну, ефективну та всебічну перевірку та оптимізацію мікросхем для всіх вузлів процесів та стилів проектування, мінімізуючи використання ресурсів та графіки стрічок.