Письменники багатопроменевих масок (MBMW) дозволяють використовувати ідеальні криволінійні форми для масок зворотної літографії (ILT), але поточних форматів макета недостатньо для ефективного представлення складних конструкцій ILT від оптичної корекції наближення (OPC) до виготовлення маски. У 2019 році ми ініціювали робочу групу формату даних для вирішення потреби у криволінійному представленні даних для MBMW. У робочій групі Curvilinear Data Format є члени компаній EDA та передових виробників масок. У цій роботі буде представлено необхідність нового криволінійного формату даних та цілі нашої робочої групи. Ми обговоримо прогрес і план робочої групи. Версія цієї статті була представлена на конференції IEEE SPIE у 2021 році та опублікована в матеріалах конференції.
