Calibre IC Manufacturing Рішення

Повне наскрізне рішення, що включає всі кроки підготовки криволінійних даних від ретаргетингу до SRAF, OPC, MPC та MDP, яке відповідає потребам генерації криволінійних масок спеціальних програм (SiPH) та конструкцій пам'яті.

Технологічне забезпечення процесів фотолітографії, включаючи екстремальний ультрафіолет (EUV). Інструменти обчислювальної літографії Calibre забезпечують підвищену точність, швидкість і знижують вартість володіння.

Вмикає перетворення формату даних маски та завдання перевірки для виготовлення масок, включаючи найновіші формати багатопроменевих масок на повністю сумісній платформі Calibre.

Забезпечує оптимізацію для авторів масок електронного променя. Нові можливості корекції та моделювання покращують лінійність критичних розмірів маски та однорідність для розширених вузлів.

Відповідає проблемам пропускної здатності виробництва та управління використанням системи, досягаючи швидких термінів обробки, незважаючи на все зростаючу складність та обсяги даних.

Покращує врожайність продукції та забезпечує більш швидке зростання, структуруючи та аналізуючи величезні обсяги даних, створюючи прогнозні моделі машинного навчання та генеруючи дієвий аналіз.

Calibre пропонує повне рішення для інфраструктури потоків, що забезпечує чудову тривалість виконання та послідовність, щоб задовольнити виробничі вимоги пристроїв пам'яті та продуктів з масивами, що повторюються.

Набір інструментів Calibre DFM включає в себе інструменти аналізу продуктивності, друку та перевірки продуктивності для підвищення продуктивності та оптимізації дизайну мікросхем.