Son on yılda, fotonik teknolojisi, mikroelektronikte optik telekomünikasyon ve optik ara bağlantılar için gelişmekte olan bir teknoloji olmuştur. Sonuç olarak, çok çeşitli fotonik tasarım metodolojileri, çok zorlu ölçekler ve şekillerle birleşmiştir. Bu tür kıvrımlı ve kritik fotonik şekillerin üretilmesi, 193 nm daldırma litografisine sahip ters litografi teknikleri (ILT) dahil olmak üzere gelişmiş çözünürlük geliştirme teknikleri (RET) gerektirir. Bu yazıda, gelişmiş ILT çözümlerini kullanan çeşitli fotonik cihazların üretim zorluklarını ve SRAF eklemesinin kenar yerleştirme hatası (EPE), PVBand ve çizgi kenarı pürüzlülüğü (LER) dahil olmak üzere iyi lito kalitesi sağlama üzerindeki etkisini araştırıyoruz. Calibre ILT çözümlerimizin en zorlu fotonik tasarımların üretimini nasıl sağladığını göstereceğiz.
