Neden Calibre NMclBias?
Gelişmiş litografi geleneksel Manhattan geometrilerinin ötesine geçtikçe, maske ve gofret gerçekleri artık ideal doğrusal tasarım amacına uymuyor. Yuvarlatılmış köşeler, artan desen karmaşıklığı ve çok ışınlı maske yazarlarının sağladığı eğrisel maske akışlarının artmasıyla Calibre NMCLbias, sektörün yeni nesil süreçler için daha doğru, üretilebilir desen temsiline geçişini desteklemeye yardımcı olur.


