Saf dikdörtgen şekiller yerine optik yakınlık düzeltmesinde (OPC) eğrisel maske şekilleri oluşturmak, gofret litografi performansını iyileştirmek için bir yöntem olarak giderek daha gerçekçi hale geliyor. Eğrisel şekiller kullanmanın ana yararı, gelişmiş bir işlem penceresidir, yani gofret görüntüsü pozlama sırasında doz ve odak koşullarına daha az duyarlıdır. En yeni yüksek performanslı kümelerin artan hesaplama gücü ve çok ışınlı maske yazarlarının (MBMW) kullanılabilirliği ile, bu gofret litografi faydaları şu anda geliştirilmekte olan teknoloji düğümlerinde gerçekleştirilebilir.
Üretime eğrisel şekillere sahip maskeleri koymak için çok pratik bir zorluk, güvenilir maske kuralı kontrollerinin (MRC) mevcudiyetidir. OPC motorunun sadece üretilebilir şekiller üretmesi gerekmez, aynı zamanda maske atölyesi, gelen maske verilerinin üretilebilir olduğunu doğrulamak için bir yönteme de ihtiyaç duyar. Eğrisel maske şekilleri için, basit genişlik ve boşluk kontrolleri artık yeterli olmadığından, bu dikdörtgen maske şekillerine göre daha zordur.
Bu yazıda, kapsamlı bir MRC limitleri setini tartışıyoruz ve eğrisel giriş verileri üzerinde çalışan bir MRC motorunun etkinliğini gösteriyoruz. Burada kullanılan kurallar, açıkta kalan özelliklerin minimum genişliğini, açıkta kalan özellikler arasındaki minimum boşluğu, dışbükey ve içbükey şekillerin minimum eğriliğini ve ayrıca minimum açıkta kalan özelliklerin alanını içerir.
