Çok ışınlı maske yazarları (MBMW), ters litografi (ILT) maskeleri için ideal eğrisel şekillerin kullanılmasını sağlar, ancak mevcut düzen formatları, optik yakınlık düzeltmesinden (OPC) maske yapımına kadar karmaşık ILT tasarımlarını verimli bir şekilde temsil etmek için yeterli değildir. 2019'da, MBMW için eğrisel veri gösterimi ihtiyacını karşılamak için bir veri formatı çalışma grubu başlattık. Eğrisel Veri Formatı çalışma grubunun EDA şirketlerinden ve gelişmiş maske üreticilerinden üyeleri vardır. Bu yazıda, yeni bir eğrisel veri formatının gerekliliği ve çalışma grubumuzun hedefleri tanıtılacaktır. Çalışma grubunun ilerlemesini ve planını tartışacağız. Bu makalenin bir versiyonu 2021'deki IEEE SPIE konferansında sunuldu ve konferans bildirilerinde yayınlandı.



