Calibre EUV

EUV veya Extreme Ultraviyole litografi, silikon gofretlere görüntü yazdırmak için çok küçük bir ışık dalga boyu (13.5nm) kullanan bir teknolojidir. Bu gereklidir, çünkü EUV'nin özellik boyutundan daha az olan küçük dalga boyu, baskıyı çok daha kolay hale getirir ve 5nm, 3nm ve sonrası gibi gelişmiş üretim teknolojisi düğümleri için desen çözünürlüğü elde etmek için gereklidir.

Calibre, hem kısa menzilli hem de uzun menzilli efektleri içeren parlama gibi tüm benzersiz EUV optik efektlerini modeller. Calibre, azimut açısının, sapmaların, apodizasyonun ve yarık boyunca kaynak varyasyonunun doğruluk kaybı olmadan sürekli modellenmesine izin vermek için etki alanı ayrıştırma yöntemi için dinamik model oluşturmayı destekler. Kalın maske emicisinin neden olduğu gölgeleme etkisi ve yarık boyunca değişen eksen dışı aydınlatma gibi 3D maske efektleri doğru bir şekilde telafi edilebilir. Calibre ayrıca OPC aracılığıyla görüntüleme etkisini ortadan kaldırmak için siyah kenarlık efektini modeller. Kalibre ayrıca Yüksek NA EUV için hazırlanmıştır. Calibre, OPC aracılığıyla modellemeden anamorfik optikleri desteklemek için yeni özellikler ve işlevlerle donatılmıştır.

SRAF'ler, EUV litografisinde muhtemelen 5nm ve altı düğüm için bir gerekliliktir. SRAF'lar Görüntü Günlüğü Eğimi (ILS) üzerinde olumlu bir etkiye sahiptir, böylece Çizgi Kenarı Pürüzlülüğünü (LER) azaltır ve Odak Derinliğini (DOF) geliştirir. EUV'nin eksen dışı aydınlatması ve bölünme yoluyla değişen gölgeleme etkileri nedeniyle, hem yatay hem de dikey yönlerde asimetrik SRAF'lara ihtiyaç duyulabilir ve farklı yarık konumlarında farklı SRAF'ler gerekebilir.

Calibre'nin SRAF çözümü, SRAF yerleşimi için EUV modellerini kullanabilir. Calibre PxOPC asimetrik SRAF'lar oluşturabilir ve DOF, ILS veya hedeflerin bir karışımını hedefleyecek şekilde ayarlanabilir. Calibre NMSraf, pxoPC sonuçlarını şablon olarak kullanarak kural tabanlı SRAF'lar oluşturabilir ve SRAF'ları asimetrik olarak yerleştirebilir. Calibre NMCLSraf, Ters Litografi motorundan serbest biçimli SRAF şekilleri için esneklik sağlar. Şablonları sırayla uygular, MRC çakışmaları için temizleme gerçekleştirir ve EUV maskelerinde eğrisel SRAF'ler oluşturabilir.

Yüksek NA (Sayısal Diyafram) EUV, ileri teknoloji düğümü için desen çözünürlüğüne ulaşmak için gerekli olan EUV litografisinin (bugünün 0.33 NA'dan >= 0.5 NA'ya) bir evrimidir. Kalibre zaten High NA EUV için hazırlanmıştır. Calibre'nin modelleme ve maske sentezi ürünleri, OPC aracılığıyla modellemeden MPC/MDP'ye kadar anamorfik optikleri zaten desteklemektedir. Çoklu desenli Calibre EUV OPC üretimi kanıtlanmıştır ve Kalibre Kaynak Maskesi Optimizasyonu (SMO) ayrıca yüksek NA'lı EUV için gelişmiş özellikler içerir.

Calibre, EUV uygulamaları için üretim akışı yoluyla eksiksiz bir tasarım sunar. Calibre'nin EUV çözümleri aşağıdakileri sağlayarak zorlukları giderir:

EUV için Tam Modelleme Desteği - Calibre'nin modelleme teknolojisi, parlama, siyah kenarlık efekti ve 3D maske efektleri dahil tüm EUV efektlerini tam olarak destekler.

Kapsamlı Ürün Paketi - Modellenen tüm efektler, bugün bant çekiminde kullanılan Calibre PxSMo, Calibre PxOPC, Calibre nMOPC, Calibre nmSraf ve Calibre OPCVerify gibi Calibre ürünlerinde hesaba katılır.

Hiyerarşik Veri İşleme - Calibre EUV akışı, tam küresel EUV modelleri kullanılırken ana hiyerarşiye göre tasarlanır ve hızlı ve doğru OPC akışı sağlar.

Eğrisel Veri İşleme - Calibre Eğrisel Veri Hazırlama Çözümleri tüm EUV maskesi bant çıkışı akışında etkinleştirilebilir.

Sonraki Düğüm Doğruluğu için Yapay Zekadan Yararlanın - Calibre EUV, maske sentezini hızlandırmak için gelişmiş makine öğrenimi teknikleri içerir ve litografi kalitesini korurken önemli çalışma zamanı iyileştirmeleri sunar.