Ürün
all
Calibre EUV
Gölgeleme
efektlerini hesaba katmak için anamorfik optikler ve maske 3D modelleme gibi yüksek NA'lı EUV'nin benzersiz zorluklarını ele alan kapsamlı destek.
Calibre Computational Lithography
Entegre devrelere (IC'ler) yönelik doyumsuz talep, daha küçük kritik boyutları artırmaya devam ediyor. Aşırı ultraviyole (EUV) dahil olmak üzere fotolitografi süreçleri, her zamankinden daha fazla karmaşıklık ve veri hacmi sunar. Hesaplamalı litografi çözümlerimiz, uygun maliyetli teknoloji etkinleştirmesini sağlar.
Calibre Computational Lithography Ürünler
Hem
litografik zorluklar hem de gelişmiş süreç düğümleriyle ilişkili hesaplama karmaşıklığı, hesaplamalı litografi yazılımı ve donanımında gelişmiş yeteneklere ihtiyaç yaratır. Calibre çözümü sınıfının en iyisi doğruluk, hız ve sahip olma maliyeti sunar.
Ürün
all
Calibre nmOPC
Derin submikron üretimi sağlamak için yoğun optik yakınlık ve proses düzeltmesi.
Ürün
all
Calibre nmSRAF
Bir tasarıma alt çözünürlük yardımcı özellikleri (SRAF) ekler.
Ürün
all
Calibre OPCverify
Güçlü tam çip simülasyonu ve litografik analiz.
Ürün
all
Calibre WORKbench
GUI, çok çeşitli uygulamaları başlatmak ve sonuçları görüntülemek için kullanılır.
Ürün
all
Kalibre NMModelFlow
Optik, direnç ve aşındırma modelleri için yüksek oranda ölçeklenebilir kalibrasyon motoru.
Ürün
all
Calibre pxOPC
Hızlı, ters piksel tabanlı optik yakınlık düzeltmesi.
Ürün
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Aydınlatma kaynağının optimizasyonu için kullanımı kolay GUI.