Calibre IC Manufacturing Çözümler

Özel uygulamaların (SiPH) ve bellek tasarımlarının eğrisel maske oluşturma ihtiyaçlarını karşılayan, yeniden hedeflemeden SRAF, OPC, MPC ve MDP'ye kadar tüm eğrisel veri hazırlama adımlarını içeren eksiksiz bir uçtan uca çözüm.

Aşırı ultraviyole (EUV) dahil olmak üzere fotolitografi süreçleri için teknoloji etkinleştirme. Calibre hesaplamalı litografi araçları gelişmiş doğruluk, hız ve düşük sahip olma maliyeti sunar.

Tamamen uyumlu bir Calibre platformunda en son çoklu ışınlı maske formatları da dahil olmak üzere maske üretimi için maske veri biçimi dönüştürme ve doğrulama görevlerini etkinleştirir.

E-ışın maskesi yazarları için optimizasyonlar sağlar. Yeni düzeltme ve modelleme yetenekleri, gelişmiş düğümler için maske kritik boyut doğrusallığını ve tekdüzeliğini geliştirir.

Sürekli artan karmaşıklığa ve veri hacimlerine rağmen hızlı geri dönüş süreleri elde ederken üretim verimliliği ve sistem kullanım yönetimi zorluklarını karşılar.

Büyük miktarda veriyi yapılandırarak ve analiz ederek, tahmine dayalı makine öğrenimi modelleri oluşturarak ve eyleme geçirilebilir analizler üreterek ürün verimini artırır ve daha hızlı yükseliş sağlar.

Calibre, bellek cihazlarının ve yüksek derecede tekrarlayan dizilere sahip ürünlerin üretim gereksinimlerini karşılamak için üstün çalışma zamanı ve tutarlılık sağlayan eksiksiz bir akış altyapısı çözümü sunar.

Calibre DFM araç paketi, verimi artırmak ve IC tasarımlarını optimize etmek için verim analizi, yazdırılabilirlik ve performans doğrulama araçları içerir.