Calibre Computational Lithography

ความต้องการที่ไม่อิ่มตัวสำหรับวงจรรวม (IC) ยังคงขับเคลื่อนมิติที่สำคัญที่เล็กลงกระบวนการโฟโตลิโทกราฟี รวมถึงอัลตราไวโอเลตที่รุนแรง (EUV) มีความซับซ้อนและปริมาณข้อมูลมากขึ้นเรื่อย ๆโซลูชันการเขียนลิโตกราฟีเชิงคำนวณของเราช่วยให้เทคโนโลยีประหยัดค่าใช้จ่าย

สำรวจแหล่งข้อมูล

Calibre Computational Lithography ผลิตภัณฑ์

ทั้งความท้าทายของลิโตกราฟิกและความซับซ้อนในการคำนวณที่เกี่ยวข้องกับโหนดกระบวนการขั้นสูงสร้างความจำเป็นสำหรับความสามารถขั้นสูงในซอฟต์แวร์และฮาร์ดแวร์การคำนวณลิโทกราฟีโซลูชัน Calibre มอบความแม่นยำ ความเร็ว และต้นทุนในการเป็นเจ้าของที่ดีที่สุด

สินค้า

Calibre EUV

การสนับสนุนที่ครอบคลุมในการจัดการกับความท้าทายที่เป็นเอกลักษณ์ของ EUV แบบ RNA สูง เช่น ออปติกอนามอร์ฟิก และการสร้างแบบจำลอง 3 มิติหน้ากากเพื่อคำนึงถึงเอฟเฟกต์เงา