Calibre IC Manufacturing โซลูชั่น

ลูชันแบบ end-to-end ที่สมบูรณ์รวมถึงขั้นตอนการเตรียมข้อมูลเส้นโค้งทั้งหมดตั้งแต่การกำหนดเป้าหมายใหม่ไปจนถึง SRAF, OPC, MPC และ MDP ที่ตอบสนองความต้องการในการสร้างหน้ากากเส้นโค้งของแอปพลิเคชันพิเศษ (SiPH) และการออกแบบหน่วยความจำ

เทคโนโลยีช่วยให้กระบวนการโฟโตลิโทกราฟี รวมถึงอัลตราไวโอเลตที่รุนแรง (EUV)เครื่องมือทำลิโตกราฟีเชิงคำนวณของ Calibre ให้ความแม่นยำ ความเร็ว และลดต้นทุนในการเป็นเจ้าของ

เปิดใช้งานการแปลงรูปแบบข้อมูลหน้ากากและการตรวจสอบสำหรับการผลิตหน้ากากรวมถึงรูปแบบหน้ากากแบบมัลติบีมล่าสุดในแพลตฟอร์ม Calibre ที่เข้ากันได้เต็มที่

ให้การเพิ่มประสิทธิภาพสำหรับผู้เขียนหน้ากาก e-beamความสามารถในการแก้ไขและการสร้างแบบจำลองใหม่ช่วยปรับปรุงเส้นตรงและความสม่ำเสมอของมิติที่สำคัญของหน้ากากสำหรับโหนดขั้นสูง

ตอบสนองความท้าทายของปริมาณการผลิตและการจัดการการใช้ระบบในขณะที่บรรลุเวลาตอบสนองที่รวดเร็วแม้จะมีความซับซ้อนและปริมาณข้อมูลที่เพิ่มขึ้นเรื่อย ๆ

ปรับปรุงผลตอบแทนของผลิตภัณฑ์และให้การปรับตัวได้เร็วขึ้นโดยการจัดโครงสร้างและวิเคราะห์ข้อมูลจำนวนมาก สร้างแบบจำลองการเรียนรู้ของเครื่องแบบคาดการณ์และสร้างการวิเคราะห์ที่สามารถดำเนินการได้

Calibre นำเสนอโซลูชันโครงสร้างพื้นฐานแบบโฟลว์ที่สมบูรณ์ซึ่งให้รันไทม์ที่เหนือกว่าและความสม่ำเสมอเพื่อตอบสนองความต้องการในการผลิตของอุปกรณ์หน่วยความจำและผลิตภัณฑ์ที่มีอาร์เรย์ที่ซ้ำกันเป็นอย่างมาก

ชุดเครื่องมือ Calibre DFM ประกอบด้วยเครื่องมือวิเคราะห์ผลผลิต ความสามารถในการพิมพ์ และการตรวจสอบประสิทธิภาพเพื่อเพิ่มผลตอบแทนและเพิ่มประสิทธิภาพการออกแบบ IC