Under det senaste decenniet har fotonikteknik varit en framväxande teknik för optisk telekommunikation och optiska sammankopplingar inom mikroelektronik. Som ett resultat har en stor mångfald av fotonikdesignmetoder gått samman med mycket utmanande skalor och former. Tillverkning av sådana kurviga och kritiska fotonikformer kräver avancerade upplösningsförbättringstekniker (RET), inklusive inversa litografitekniker (ILT) med 193 nm nedsänkningslitografi. I denna uppsats undersöker vi tillverkningsutmaningarna för flera fotonikenheter med avancerade ILT-lösningar och effekten av SRAF-insättning på att leverera god litokvalitet, inklusive kantplaceringsfel (EPE), PVband och linjekantgrovhet (LER). Vi kommer att visa hur våra Calibre ILT-lösningar möjliggör tillverkning av de mest utmanande fotonikdesignerna.
