Att generera krökta maskformer i optisk närhetskorrigering (OPC) istället för rena rektangulära former blir mer och mer realistiskt som en metod för att förbättra waferlitografiprestanda. Den största fördelen med att använda krökta former är ett förbättrat processfönster, vilket innebär att skivbilden är mindre känslig för dos- och fokusförhållanden under exponeringen. Med den ökade beräkningskraften hos de senaste högpresterande klustren och tillgängligheten av multistrålemaskskrivare (MBMW) kan dessa fördelar med waferlitografi realiseras vid tekniknoder som för närvarande utvecklas.
En mycket praktisk utmaning för att sätta masker med krökta former i produktion är tillgången på tillförlitliga maskregelkontroller (MRC). OPC-motorn behöver inte bara generera former som är tillverkningsbara, men maskbutiken behöver också en metod för att verifiera att inkommande maskdata är tillverkningsbara. För krökta maskformer är detta mer utmanande än för rektangulära maskformer eftersom enkla bredd- och utrymmeskontroller inte längre räcker.
I detta dokument, vi diskuterar en omfattande uppsättning MRC-gränser och visar effektiviteten hos en MRC-motor som arbetar på krökta indata. Rules som används här inkluderar minsta bredd på exponerade funktioner, minimalt utrymme mellan exponerade funktioner, minsta krökning av konvexa och konkava former, samt minsta yta av exponerade funktioner.
