Calibre IC Manufacturing Lösningar

En komplett helhetslösning inklusive alla kröklinjära dataförberedelsesteg från retargeting till SRAF, OPC, MPC och MDP som tillgodoser de kröklinjära maskgenereringsbehoven för specialapplikationer (SiPH) och minnesdesign.

Teknikaktivering för fotolitografiprocesser, inklusive extrem ultraviolett (EUV). Calibers beräkningslitografiverktyg erbjuder förbättrad noggrannhet, hastighet och lägre ägandekostnad.

Aktiverar konvertering av maskdataformat och verifieringsuppgifter för masktillverkning inklusive de senaste multistrålemaskformaten i en fullt kompatibel Calibre-plattform.

Tillhandahåller optimeringar för skrivare av e-beam mask. Nya korrigerings- och modelleringsfunktioner förbättrar linjäriteten och enhetligheten för maskkritiska dimensioner för avancerade noder.

Möter utmaningarna med produktionskapacitet och hantering av systemutnyttjande samtidigt som man uppnår snabba vändningstider trots allt ökande komplexitet och datavolymer.

Förbättrar produktavkastningen och ger snabbare rampning genom att strukturera och analysera enorma mängder data, skapa prediktiva maskininlärningsmodeller och generera handlingsbara analyser.

Calibre erbjuder en komplett flödesinfrastrukturlösning som levererar överlägsen körtid och konsistens för att möta tillverkningskraven för minnesenheter och produkter med mycket repetitiva matriser.

Calibre DFM-verktygssvit innehåller verktyg för avkastningsanalys, utskriftsbarhet och prestandavalidering för att förbättra utbytet och optimera IC-konstruktioner.