Iskoristite više platformi za dizajn do proizvodnje
Rešenja Calibre Defect Management kalibra vrše grupisanje defekata zasnovano na usklađivanju uzoraka i koriste DRC/LVS za atribute dizajna zasnovane na lokaciji defekata i analizu neto kritičnosti. Besprekorna integracija sa alatima za dizajn olakšava direktnu vezu između fizičkog dizajna i pregleda defekata.
Ukrsna sonda za analizu dizajna
GUI za Calibre Defect Management integriše različite funkcije analize dizajna Calibre i pruža različite funkcije analize vođene dizajnom zasnovane na greškama tako da korisnici mogu lako da identifikuju i poprave osnovni uzrok nedostataka.
Donji izbor od inspekcije BFI do SEM analize
Calibre Defect Management pruža aplikacije za smanjenje uzorkovanja integrisanjem sa Calibre SONR tehnikama, metodologijom rangiranja i predviđanja zasnovanom na mašinskom učenju, kako bi se poboljšala stopa pogodnosti defekata i istakla sistematski obrasci sa ograničenim budžetom uzorkovanja za pregled SEM-a.
Analiza defekata zasnovana na SEM slici
Mogućnost obrade slike Calibre Default Management SEM omogućava precizno sidrenje između mesta defekta na maski/vafli i lokacije defekta na rasporedu. Tehnike kao što su poravnanje od SEM-a do rasporeda, ekstrakcija kontura i automatska klasifikacija defekata zasnovana na SEM-u koriste se da bi se osigurala tačna analiza defekata.
Spremni ste da saznate više o Calibre?
Stojimo spremni da odgovorimo na vaša pitanja! Kontaktirajte naš tim danas
Pozovite: 1-800-547-3000
Kalibar konsultantske usluge
Pomažemo vam da usvojite, primenite, prilagodite i optimizujete svoja složena dizajnerska okruženja. Direktan pristup inženjeringu i razvoju proizvoda omogućava nam da iskoristimo duboku stručnost u domenu i temama.
Centar za podršku
Siemens centar za podršku pruža vam sve na jednoj lokaciji koja je jednostavna za upotrebu -
baza znanja, ažuriranja proizvoda, dokumentacija, slučajevi podrške, informacije o licenci/porudžbini i još mnogo toga.
Kalibar IC dizajn i proizvodnja
Paket alata Calibre pruža tačnu, efikasnu, sveobuhvatnu verifikaciju i optimizaciju IC-a u svim procesnim čvorovima i stilovima dizajna, istovremeno minimizirajući upotrebu resursa i rasporede snimanja.