U poslednjoj deceniji, fotonska tehnologija je nova tehnologija za optičke telekomunikacije i optičke interkonekcije u mikroelektronici. Kao rezultat toga, velika raznolikost metodologija dizajna fotonike spojila se sa veoma izazovnim skalama i oblicima. Izrada takvih zakrivljenih i kritičnih fotonskih oblika zahteva napredne tehnike poboljšanja rezolucije (RET), uključujući tehnike inverzne litografije (ILT) sa 193 nm uronjajućom litografijom. U ovom radu istražujemo proizvodne izazove nekoliko fotonskih uređaja koristeći napredna ILT rešenja i uticaj umetanja SRAF -a na pružanje dobrog kvaliteta lita, uključujući grešku postavljanja ivica (EPE), PVband i hrapavost ivica linije (LER). Pokazaćemo kako naša Calibre ILT rešenja omogućavaju proizvodnju najizazovnijih fotonskih dizajna.



