Generisanje krivolinijskih oblika maski u optičkoj korekciji blizine (OPC) umesto čistih pravougaonih oblika postaje sve realnije kao metoda za poboljšanje performansi litografije vafla. Glavna prednost upotrebe krivolinijskih oblika je poboljšani prozor procesa, što znači da je slika vafla manje osetljiva na uslove doze i fokusa tokom ekspozicije. Sa povećanom računskom snagom najnovijih klastera visokih performansi i dostupnošću pisača maski sa više zraka (MBMV), te prednosti litografije vafla mogu se ostvariti na tehnološkim čvorovima koji se trenutno razvijaju.
Veoma praktičan izazov za stavljanje maski sa krivuljnim oblicima u proizvodnju je dostupnost pouzdanih provera pravila maski (MRC). OPC motor ne samo da treba da generiše oblike koji se mogu proizvesti, već je prodavnici maski potrebna i metoda za proveru da li se dolazni podaci o maskama mogu proizvesti. Za krivolinijske oblike maski ovo je izazovnije nego za pravougaone oblike maski jer jednostavne provere širine i prostora više nisu dovoljne.
U ovom radu raspravljamo o sveobuhvatnom skupu granica MRC i demonstriramo efikasnost MRC motora koji radi na krivolinijskim ulaznim podacima. Rules koja se ovde koriste uključuju minimalnu širinu izloženih karakteristika, minimalni prostor između izloženih karakteristika, minimalnu zakrivljenost konveksnih i konkavnih oblika, kao i minimalnu površinu izloženih karakteristika.
