V zadnjem desetletju je bila fotonska tehnologija nastajajoča tehnologija za optične telekomunikacije in optične povezave v mikroelektroniki. Posledično se je velika raznolikost metodologij oblikovanja fotonike združila z zelo zahtevnimi lestvicami in oblikami. Za izdelavo takšnih ukrivljenih in kritičnih fotonskih oblik so potrebne napredne tehnike izboljšanja ločljivosti (RET), vključno s tehnikami inverzne litografije (ILT) s 193 nm potopno litografijo. V tem prispevku raziskujemo proizvodne izzive več fotonskih naprav z uporabo naprednih rešitev ILT in vpliv vstavljanja SRAF na zagotavljanje dobre kakovosti lita, vključno z napako pri postavitvi robov (EPE), PVpasom in hrapavostjo robov linije (LER). Pokazali bomo, kako naše rešitve Calibre ILT omogočajo izdelavo najzahtevnejših fotonskih modelov.
