Pisci mask z več žarki (MBMW) omogočajo uporabo idealnih krivuljnih oblik za maske inverzne litografije (ILT), vendar trenutni formati postavitve ne zadostujejo za učinkovito predstavitev zapletenih modelov ILT od optične korekcije bližine (OPC) do izdelave mask. Leta 2019 smo ustanovili delovno skupino za format podatkov, da bi obravnavali potrebo po krivuljinski predstavitvi podatkov za MBMW. Delovna skupina Curvilinear Data Format ima člane iz podjetij EDA in naprednih proizvajalcev mask. V tem prispevku bomo predstavili potrebo po novem ukrivljenem formatu podatkov in cilji naše delovne skupine. Razpravljali bomo o napredku in načrtu delovne skupine. Različica tega prispevka je bila predstavljena na konferenci IEEE SPIE leta 2021 in objavljena v zborniku konference.



