Calibre IC Manufacturing Rešitve

Popolna rešitev od konca do konca, ki vključuje vse korake priprave krivuljnih podatkov od ponovnega ciljanja do SRAF, OPC, MPC in MDP, ki obravnava potrebe po ustvarjanju krivuliniarnih mask posebnih aplikacij (SiPH) in zasnove pomnilnika.

Tehnologija omogoča fotolitografske procese, vključno z ekstremno ultravijoličnimi žarki (EUV). Računalniška litografska orodja Calibre ponujajo izboljšano natančnost, hitrost in nižje stroške lastništva.

Omogoča pretvorbo in preverjanje formata podatkov maske za izdelavo mask, vključno z najnovejšimi formati mask z več žarki v popolnoma združljivi platformi Calibre.

Zagotavlja optimizacije za pisce mask elektronskih žarkov. Nove zmogljivosti popravljanja in modeliranja izboljšajo linearnost in enakomernost kritične dimenzije maske za napredna vozlišča.

Odpravlja se z izzivi proizvodne zmogljivosti in upravljanja uporabe sistema, hkrati pa doseže hitre čase izvedbe kljub vedno večji kompleksnosti in obsegu podatkov.

Izboljša donos izdelkov in zagotavlja hitrejše povečanje s strukturiranjem in analizo ogromnih količin podatkov, ustvarjanjem napovednih modelov strojnega učenja in ustvarjanjem izvedljive analize.

Calibre ponuja celovito infrastrukturno rešitev za pretok, ki zagotavlja vrhunski čas delovanja in doslednost za izpolnjevanje proizvodnih zahtev pomnilniških naprav in izdelkov z zelo ponavljajočimi se nizmi.

Zbirka orodij Calibre DFM vključuje orodja za analizo donosa, tiskljivost in preverjanje učinkovitosti za povečanje donosa in optimizacijo modelov IC.