V poslednom desaťročí bola fotonická technológia rozvíjajúcou sa technológiou pre optické telekomunikácie a optické prepojenia v mikroelektronike. Výsledkom je, že veľká rozmanitosť metodík dizajnu fotoniky sa spojila s veľmi náročnými mierkami a tvarmi. Výroba takýchto zakrivených a kritických fotonických tvarov vyžaduje pokročilé techniky vylepšenia rozlíšenia (RET) vrátane techník inverznej litografie (ILT) s ponornou litografiou 193 nm. V tomto článku skúmame výrobné výzvy niekoľkých fotonických zariadení pomocou pokročilých riešení ILT a vplyv vloženia SRAF na poskytovanie dobrej kvality lito vrátane chyby umiestnenia hrán (EPE), PVBand a drsnosti okrajov línie (LER). Ukážeme, ako naše riešenia Calibre ILT umožňujú výrobu najnáročnejších fotonických dizajnov.
