Korekcia procesu masky (MPC) pre krivočiarne vzory
Calibre NMCLMPC vykonáva korekciu procesu maskovania (MPC) pre vstupné rozloženia s krivočiarnymi polygónmi, ako sú tie, ktoré vyrába technológiu Inverse Lithography Technology (ILT) OPC, ako aj kremíkové fotonické štruktúry.
Inovatívna fragmentácia založená na zakrivení
Fragmentácia založená na zakrivenosti v motore Calibre NMCLMPC určuje dĺžku fragmentu okraja na základe lokálneho zakrivenia a poskytuje výstup uskutočniteľný pre krivočiarnu korekciu MPC. Táto funkcia sa pokúša spoločne optimalizovať veľkosť súboru, presnosť a čas vykonania pre korekciu procesu krivočiarnej masky.
Možnosť dosiahnutia rýchlej konvergencie
Calibre nmCLMPC je možné použiť s predskreslením založeným na zakrivenosti, aby sa umožnila rýchla konvergencia pre krivočiarny MPC. Metóda predskreslenia založená na zakrivenosti znižuje počet požadovaných iterácií bez zníženia presnosti korekcie a šetrí čas prevádzky.
Možnosť simultánnej korekcie
Calibre nmCLMPC dokáže korigovať krivočiarne a obdĺžnikové tvary v jednom behu a uplatňuje rovnaké pravidlá ako v štandardnom recepte na obdĺžnikové tvary.
Ste pripravení dozvedieť sa viac o Calibre?
Sme pripravení odpovedať na vaše otázky! Kontaktujte náš tím ešte dnes
Zavolajte: 1-800-547-3000
Poradenské služby Calibre
Pomôžeme vám prijať, nasadiť, prispôsobiť a optimalizovať vaše komplexné dizajnové prostredia. Priamy prístup k inžinierstvu a vývoju produktov nám umožňuje využiť hlboké odborné znalosti v oblasti domény a témy.
Centrum podpory
Centrum podpory spoločnosti Siemens vám poskytuje všetko na jednom ľahko použiteľnom mieste -
databáza znalostí, aktualizácie produktov, dokumentácia, prípady podpory, informácie o licencie/objednávke a ďalšie.
Dizajn a výroba kalibru IC
Balík nástrojov Calibre poskytuje presné, efektívne a komplexné overenie a optimalizáciu IC vo všetkých procesných uzloch a štýloch návrhu a zároveň minimalizuje využitie zdrojov a harmonogramy zrážok.