Generovanie krivočiarnych tvarov masiek v optickej korekcii blízkosti (OPC) namiesto čistých obdĺžnikových tvarov sa stáva čoraz realistickejším ako metóda na zlepšenie výkonu litografie doštičiek. Hlavnou výhodou použitia zakrivených tvarov je vylepšené okno procesu, čo znamená, že obraz oblátky je počas expozície menej citlivý na podmienky dávkovania a zaostrenia. So zvýšeným výpočtovým výkonom najnovších vysokovýkonných klastrov a dostupnosti viaclúčových snímačov masiek (MBMW) je možné tieto výhody litografie doštičiek realizovať v technologických uzloch, ktoré sa v súčasnosti vyvíjajú.
Veľmi praktickou výzvou pri umiestňovaní masiek s krivočiarnymi tvarmi do výroby je dostupnosť spoľahlivých kontrol pravidiel masky (MRC). Motor OPC potrebuje nielen generovať tvary, ktoré sa dajú vyrábať, ale obchod s maskami potrebuje aj metódu overovania, či sú prichádzajúce údaje masky vyrobiteľné. Pre zakrivené tvary masiek je to náročnejšie ako pre obdĺžnikové tvary masiek, pretože jednoduché kontroly šírky a priestoru už nestačia.
V tomto článku diskutujeme o komplexnom súbore limitov MRC a demonštrujeme účinnosť motora MRC pracujúceho na krivočiarnych vstupných údajoch. Rules, ktoré sa tu používajú, zahŕňajú minimálnu šírku exponovaných prvkov, minimálny priestor medzi exponovanými prvkami, minimálne zakrivenie konvexných a konkávnych tvarov, ako aj minimálnu plochu exponovaných prvkov.
