Multi-beam mask writers (MBMW) umožňujú použitie ideálnych krivočiarnych tvarov pre inverzné litografické masky (ILT), ale súčasné formáty rozloženia nestačia na efektívne reprezentáciu zložitých návrhov ILT od korekcie optickej blízkosti (OPC) až po výrobu masiek. V roku 2019 sme iniciovali pracovnú skupinu pre formát údajov, aby sme riešili potrebu krivočiarnej reprezentácie údajov pre MBMW. Pracovná skupina Curvilinear Data Format má členov zo spoločností EDA a pokročilých výrobcov masiek. V tomto príspevku sa predstaví potreba nového krivočiarneho formátu údajov a ciele našej pracovnej skupiny. Budeme diskutovať o pokroku a pláne pracovnej skupiny. Verzia tohto článku bola prezentovaná na konferencii IEEE SPIE v roku 2021 a uverejnená v zborníku z konferencie.



