Calibre IC Manufacturing Riešenia

Kompletné komplexné riešenie vrátane všetkých krokov prípravy krivočiarnych údajov od opätovného zacielenia po SRAF, OPC, MPC a MDP, ktoré rieši potreby generovania krivočiarnych masiek špeciálnych aplikácií (SiPH) a návrhov pamäte.

Technológia umožňujúca fotolitografické procesy vrátane extrémneho ultrafialového žiarenia (EUV). Výpočtové litografické nástroje Calibre ponúkajú vyššiu presnosť, rýchlosť a nižšie náklady na vlastníctvo.

Umožňuje konverziu formátu údajov masky a úlohy overovania pre výrobu masiek vrátane najnovších formátov masky s viacerými lúčmi v plne kompatibilnej platforme Calibre.

Poskytuje optimalizáciu pre autorov masiek elektronického lúča. Nové možnosti korekcie a modelovania zlepšujú linearitu a jednotnosť kritických dimenzií masky pre pokročilé uzly.

Spĺňa výzvy výrobnej priepustnosti a riadenia využitia systému a zároveň dosahuje rýchle časy obratu napriek stále rastúcej zložitosti a objemu údajov.

Zlepšuje výnos produktu a poskytuje rýchlejšie tempo štruktúrovaním a analýzou obrovského množstva údajov, vytváraním prediktívnych modelov strojového učenia a generovaním praktickej analýzy.

Spoločnosť Calibre ponúka kompletné riešenie infraštruktúry toku, ktoré poskytuje vynikajúcu dobu prevádzky a konzistentnosť, aby spĺňala výrobné požiadavky pamäťových zariadení a produktov s vysoko opakujúcimi sa poliami.

Súbor nástrojov Calibre DFM obsahuje nástroje na analýzu výnosov, tlačiteľnosť a validáciu výkonu na zvýšenie výťažnosti a optimalizáciu návrhov IC.