Процесс коррекции масок (MPC) хорошо зарекомендовал себя как необходимый этап подготовки данных масок (MDP) для изготовления электронно-лучевых масок на высокотехнологичных узлах с длиной волны 14 нм и выше. MPC обычно использует модель рассеяния электронов для представления воздействия электронного луча и модель процесса для представления эффектов процесса разработки и травления. Модели используются для итеративного моделирования положения ребер компоновочных объектов и перемещения сегментов кромок, чтобы максимизировать точность позиционирования кромок готовой маски. Выборочное назначение дозы можно использовать в сочетании с перемещением кромок, чтобы одновременно максимизировать технологическое окно и точность позиционирования кромок.
Методология MPC для калибровки моделей и коррекции компоновки была разработана и оптимизирована для устройств, пишущих маски в форме векторного луча (VSB), которые представляют собой доминирующую технологию масочной литографии, используемую сегодня для производства передовых масок. Недавно были представлены устройства для записи многолучевых масок (MBMW), которые теперь начинают использоваться в производстве объемных фотомасок.
Эти новые инструменты основаны на архитектурах массового параллельного растрового сканирования, которые значительно сокращают зависимость времени записи от сложности макета. Ожидается, что технология VSB дополнит и, в конечном итоге, заменит технологию VSB, использующую усовершенствованные маски узлов, поскольку сложность компоновки продолжает расти [5] [6].
Хотя ожидается, что существующие методы MPC, разработанные для литографии VSB, могут быть легко адаптированы к MBMW, необходимо тщательно изучить способы исправления ошибок маски для MBMW, чтобы полностью подтвердить применимость существующих инструментов и методов и выявить любые модификации, которые могут потребоваться для достижения желаемых характеристик компакт-дисков MBMW. В данной работе мы представим результаты такого исследования и подтвердим готовность MPC к многолучевой масочной литографии.
