В последнее десятилетие технология фотоники стала новой технологией для оптических телекоммуникаций и оптических межсоединений в микроэлектронике. В результате большое разнообразие методологий проектирования фотоники объединилось с очень сложными масштабами и формами. Для изготовления таких изогнутых и критических фотонных форм требуются передовые методы повышения разрешения (RET), включая методы обратной литографии (ILT) с иммерсионной литографией 193 нм. В этой статье мы исследуем производственные проблемы нескольких фотонных устройств с использованием передовых решений ILT и влияние вставки SRAF на обеспечение хорошего качества лито, включая ошибку размещения кромок (EPE), полосу пропускания PVBand и шероховатость кромок линий (LER). Мы продемонстрируем, как наши решения Calibre ILT позволяют создавать самые сложные фотонные конструкции.
