Создание криволинейных форм маски с помощью оптической коррекции приближения (OPC) вместо чистых прямоугольных форм становится все более реалистичным методом улучшения характеристик литографии пластин. Основным преимуществом использования криволинейных форм является улучшенное технологическое окно, а это означает, что изображение пластины менее чувствительно к дозе и условиям фокусировки во время воздействия. Благодаря повышенной вычислительной мощности новейших высокопроизводительных кластеров и наличию устройств записи многолучевых масок (MBMW) эти преимущества литографии на пластинах могут быть реализованы на разрабатываемых в настоящее время технологических узлах.
Очень практичной проблемой при производстве масок криволинейной формы является наличие надежных средств проверки правил использования масок (MRC). Движок OPC должен не только генерировать формы, которые можно изготовить, но и цеху масок нужен метод проверки пригодности входящих данных масок к производству. Для криволинейных масок это сложнее, чем для прямоугольных, поскольку простых проверок ширины и пробела уже недостаточно.
В этой статье мы обсуждаем полный набор ограничений MRC и демонстрируем эффективность двигателя MRC, работающего на криволинейных входных данных. Используемые здесь правила включают минимальную ширину открытых объектов, минимальное расстояние между открытыми объектами, минимальную кривизну выпуклых и вогнутых форм, а также минимальную площадь открытых объектов.
