Skip to main content
Эта страница переведена автоматически. Перейти к английской версии?

Обзор

Calibre Curvilinear MDP

Развитие технологии записи многолучевых масок способствует быстрому росту применения криволинейных фотомасок для продвинутых узлов. Calibre Curvilinear MDP Curvilinear MDP представляет собой комплексное решение для подготовки данных криволинейных масок (CLMDP) при трещинах, верификации и просмотра новых форматов многолучевых трещин.

Технический документ

Рабочая группа по криволинейному формату данных для эпохи MBMW

Средства записи многолучевых масок (MBMW) позволяют использовать идеальные криволинейные формы для масок с обратной литографией (ILT), но современных форматов компоновки недостаточно для эффективного представления сложных конструкций ILT, начиная с оптической коррекции приближения (OPC) и заканчивая изготовлением масок. В 2019 году мы создали рабочую группу по формату данных для решения проблемы криволинейного представления данных для MBMW. В рабочую группу Curvilinear Data Format входят представители компаний EDA и передовых производителей масок. В этой статье мы расскажем о необходимости нового криволинейного формата данных и целях нашей рабочей группы. Мы обсудим ход работы и план рабочей группы. Версия этого документа была представлена на конференции IEEE SPIE в 2021 году и опубликована в сборнике материалов конференции.

Examples of curvilinear mask layouts and corresponding mask SEM images written with MBMW
Ключевые характеристики

Многоугольное разрушение при криволинейном MDP

Calibre Curvilinear MDP поддерживает многолучевой формат трещин на основе многоугольников, что позволяет сохранить преимущества нативного представления кривых вплоть до устройства записи многолучевых масок.

Ресурсы по теме

ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ

Calibre CLMDP: часто задаваемые вопросы

Готовы узнать больше о Calibre?

Мы всегда готовы ответить на ваши вопросы! Свяжитесь с нашей командой уже сегодня

Звонок: 1-800-547-3000

Консультационные услуги Calibre

Мы поможем вам внедрить, развернуть, настроить и оптимизировать сложные среды проектирования. Прямой доступ к проектированию и разработке продуктов позволяет нам использовать глубокие знания в предметных и предметных областях.

Центр поддержки

Центр поддержки Siemens предоставляет все необходимое в одном удобном месте -
база знаний, обновления продуктов, документация, заявки на поддержку, информация о лицензиях/заказах и многое другое.

Проектирование и производство микросхем Calibre

Набор инструментов Calibre обеспечивает точную, эффективную и всестороннюю проверку и оптимизацию микросхем на всех технологических узлах и стилях проектирования, сводя к минимуму потребление ресурсов и сроки замены пленки.