Средства записи многолучевых масок (MBMW) позволяют использовать идеальные криволинейные формы для масок с обратной литографией (ILT), но современных форматов компоновки недостаточно для эффективного представления сложных конструкций ILT, начиная с оптической коррекции приближения (OPC) и заканчивая изготовлением масок. В 2019 году мы создали рабочую группу по формату данных для решения проблемы криволинейного представления данных для MBMW. В рабочую группу Curvilinear Data Format входят представители компаний EDA и передовых производителей масок. В этой статье мы расскажем о необходимости нового криволинейного формата данных и целях нашей рабочей группы. Мы обсудим ход работы и план рабочей группы. Версия этого документа была представлена на конференции IEEE SPIE в 2021 году и опубликована в сборнике материалов конференции.



