Calibre EUV

Литография EUV, или Extreme Ultraviolet, — это технология, использующая очень малую длину волны света (13,5 нм) для печати изображений на кремниевых пластинах. Это необходимо, потому что небольшая длина волны EUV, которая меньше размера объекта, значительно упрощает печать и необходима для достижения разрешения рисунка на узлах с передовыми производственными технологиями, таких как 5 нм, 3 нм и выше.

Calibre моделирует все уникальные оптические эффекты EUV, такие как вспышки, включая эффекты как ближнего, так и дальнего действия. Calibre поддерживает создание динамической модели для метода декомпозиции областей, что позволяет непрерывно моделировать азимутальный угол, аберрации, аподизацию и изменение источника в щели без потери точности. Эффекты трехмерной маски, такие как эффект затенения, вызванный толстым поглотителем маски и внеосевым освещением, которое меняется в зависимости от щели, можно точно компенсировать. Calibre также моделирует эффект черной рамки, чтобы исключить влияние изображения с помощью OPC. Calibre также подготовлен для EUV с высоким содержанием NA. Calibre оснащен новыми функциями и функциями для поддержки анаморфической оптики от моделирования до OPC.

SRAF, вероятно, необходимы для узла длиной 5 нм и ниже при литографии EUV. SRAF положительно влияют на наклон журнала изображений (ILS), тем самым уменьшая шероховатость кромок линий (LER) и увеличивая глубину фокусировки (DOF). Из-за внеосевого освещения EUV и различных эффектов затенения при разделении могут потребоваться асимметричные SRAF как в горизонтальном, так и в вертикальном направлениях, а также разные SRAF могут потребоваться в разных местах щелей.

Решение SRAF от Calibre может использовать модели EUV для размещения SRAF. Калибр PxOPC может генерировать асимметричные SRAF и может быть настроен в соответствии с требованиями DOF, ILS или комбинации целей. Calibre NMSraf может генерировать SRAF на основе правил, используя результаты PxOPC в качестве шаблона, и может размещать SRAF асимметрично. Калибр NMClSraf обеспечивает гибкость при обработке форм SRAF произвольной формы с помощью механизма Inverse Lithografy. Он последовательно применяет шаблоны, устраняет конфликты MRC и может создавать криволинейные SRAF на масках EUV.

EUV с высокой NA (числовой апертурой) — это эволюция EUV-литографии (с сегодняшних 0,33 NA до >= 0,5 NA), которая необходима для достижения разрешения диаграммы в узлах с передовыми технологиями. Calibre уже готов к использованию EUV с высоким уровнем выбросов NA. Продукты Calibre для моделирования и синтеза масок уже поддерживают анаморфическую оптику, начиная с моделирования с помощью OPC и заканчивая MPC/MDP. Калибр EUV OPC с несколькими узорами зарекомендовал себя в производстве, а оптимизация маски Calibre Source Mask Optimization (SMO) также включает расширенные функции для EUV с высоким содержанием NA.

Calibre предлагает полный цикл проектирования и производства для приложений EUV. Решения Calibre EUV решают проблемы, обеспечивая:

Полная поддержка моделирования для EUV - Технология моделирования Calibre полностью поддерживает все эффекты EUV, включая блики, эффект черной границы и эффекты 3D-маски.

Полный набор продуктов - Все смоделированные эффекты учтены в продуктах Calibre, таких как Calibre PxSmo, Calibre PxOPC, Calibre NMOPC, Calibre NMSraf и Calibre OPCVerify, которые сегодня используются при записи на пленку.

Иерархическая обработка данных - Calibre EUV flow построен по основной иерархии и использует полные глобальные модели EUV, что обеспечивает быстрый и точный поток OPC.

Криволинейная обработка данных - Решения Calibre Curvilinear по подготовке данных можно использовать на всем протяжении процесса заклеивания пленки для масок EUV.

Используйте искусственный интеллект для повышения точности узлов - Calibre EUV включает передовые методы машинного обучения для ускорения синтеза масок, что позволяет значительно улучшить время работы при сохранении качества литографии.