Calibre IC Manufacturing Решения

Комплексное комплексное решение, включающее все этапы подготовки криволинейных данных от ретаргетинга до SRAF, OPC, MPC и MDP, которое отвечает требованиям создания криволинейных масок для специальных приложений (SIPH) и конструкций памяти.

Внедрение технологий для процессов фотолитографии, включая экстремальное ультрафиолетовое излучение (EUV). Инструменты вычислительной литографии Calibre обеспечивают повышенную точность, скорость и снижение стоимости владения.

Позволяет выполнять задачи преобразования и проверки форматов данных масок при изготовлении масок, включая новейшие форматы многолучевых масок на полностью совместимой платформе Calibre.

Обеспечивает оптимизацию для авторов электронных масок. Новые возможности коррекции и моделирования улучшают линейность и однородность критических размеров маски для сложных узлов.

Решает задачи управления пропускной способностью производства и использованием системы, обеспечивая при этом быстрые сроки выполнения заказов, несмотря на постоянно растущую сложность и объемы данных.

Повышает доходность продукта и ускоряет выпуск продукции за счет структурирования и анализа огромных объемов данных, создания прогнозных моделей машинного обучения и проведения практического анализа.

Calibre предлагает комплексное решение для потоковой инфраструктуры, обеспечивающее превосходное время работы и согласованность в соответствии с производственными требованиями к устройствам памяти и продуктам с массивами с высокой повторяемостью.

Набор инструментов Calibre DFM включает инструменты анализа производительности, пригодности для печати и проверки производительности для повышения производительности и оптимизации конструкций микросхем.