În ultimul deceniu, tehnologia fotonică a fost o tehnologie emergentă pentru telecomunicațiile optice și interconexiunile optice în microelectronică. Drept urmare, o mare diversitate de metodologii de proiectare a fotonicii s-a contopit cu scale și forme foarte provocatoare. Fabricarea unor astfel de forme fotonice curbate și critice necesită tehnici avansate de îmbunătățire a rezoluției (RET), inclusiv tehnici de litografie inversă (ILT) cu litografie de imersie de 193 nm. În această lucrare, investigăm provocările de fabricație ale mai multor dispozitive fotonice folosind soluții ILT avansate și impactul inserției SRAF asupra furnizării unei calități litologice bune, inclusiv eroare de plasare a marginilor (EPE), PVBand și rugozitatea marginii liniei (LER). Vom demonstra modul în care soluțiile noastre Calibre ILT permit fabricarea celor mai provocatoare modele fotonice.
