Na última década, a tecnologia fotónica tem sido uma tecnologia emergente para telecomunicações ópticas e interligações ópticas em microelectrónica. Como resultado, uma grande diversidade de metodologias de design de fotónica fundiu-se com escalas e formas muito desafiadoras. A fabricação de tais formas fotónicas curvas e críticas requer técnicas avançadas de aprimoramento de resolução (RET), incluindo técnicas de litografia inversa (ILT) com litografia de imersão de 193 nm. Neste artigo, investigamos os desafios de fabrico de vários dispositivos fotónicos que utilizam soluções avançadas de ILT e o impacto da inserção de SRAF no fornecimento de boa qualidade de lito, incluindo erro de colocação de borda (EPE), banda PV e rugosidade da borda de linha (LER). Vamos demonstrar como as nossas soluções Calibre ILT permitem a fabricação dos designs de fotónica mais desafiadores.
