Motor OPC curvilíneo
O motor OPC curvilíneo Calibre pode converter formas retangulares em padrões curvilíneos e garantir que o objetivo EPE seja alcançado. Realiza verificações de impressão SRAF para formas curvas e aplica restrições MRC simultaneamente para garantir a geração de máscara curvilínea de alta qualidade.
Solução rápida de OPC curvilínea de chip completo
O Calibre nmCLOPC permite o fluxo OPC curvilíneo ILT híbrido que oferece a qualidade litográfica necessária com um tempo de execução mais rápido do que com uma solução ILT completa. Este fluxo pode ser usado para gerar máscaras curvilíneas necessárias para a Fotónica de Silício, ou para projetos retilíneos para lógica ou memória.
Representação de polígonos curvilíneos nativos
Ao contrário dos motores OPC tradicionais que dependem do movimento da borda de Manhattan, o Calibre nmCLOPC aplica a representação de polígonos curvilíneos nativos com splines de Bezier e realiza a correção baseada em spline movendo uma “curva OPC”. Este novo formato não só beneficia a melhoria da precisão mas também mitiga a explosão do tamanho dos dados introduzida por máscaras curvilíneas.
Soluções avançadas de modelagem OPC para máscaras curvilíneas
O modelo do núcleo Calibre OPC pode modelar com precisão os efeitos do campo eletromagnético 3D da máscara para máscaras curvilíneas. A utilização de contornos SEM para calibração de modelos para padrões curvilíneos permite descrever o comportamento real no wafer. A tecnologia avançada Calibre nmCLOPC maximiza o direito à litografia e atinge a precisão OPC exigida.
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