Correção do processo de máscara (MPC) para projetos curvilíneos
O Calibre nmCLMPC executa a Correção do Processo de Máscara (MPC) para layouts de entrada com polígonos curvilíneos, tais como os produzidos pela Inverse Lithography Technology (ILT) OPC, bem como estruturas fotónicas de silício.
Fragmentação inovadora baseada em curvatura
A fragmentação baseada na curvatura no motor Calibre nmCLMPC determina o comprimento do fragmento da borda com base na curvatura local e fornece saída viável para a correção curvilínea do MPC. Esta funcionalidade tenta co-otimizar o tamanho do ficheiro, a precisão e o tempo de execução para a correção do processo da máscara curvilínea.
Opção para alcançar uma convergência rápida
O calibre NMCLMPC pode ser usado com pré-polarização baseada em curvatura para permitir uma convergência rápida para o MPC curvilíneo. O método de pré-polarização baseado em curvatura reduz o número de iterações necessárias sem degradar a precisão da correção e salva o tempo de execução.
Capacidade de correcção simultânea
O Calibre nmCLMPC pode corrigir formas curvilíneas e retangulares de uma só vez aplicando as mesmas regras de uma receita padrão às formas retangulares.
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