Os gravadores de máscara multi-feixe (MBMW) permitem o uso de formas curvilíneas ideais para máscaras de litografia inversa (ILT), mas os formatos de layout atuais não são suficientes para representar projetos complexos de ILT de forma eficiente desde a correção óptica de proximidade (OPC) até à fabricação de máscaras. Em 2019, iniciámos um grupo de trabalho de formato de dados para abordar a necessidade de representação curvilínea de dados para MBMW. O grupo de trabalho Curvilinear Data Format tem membros de empresas EDA e fabricantes avançados de máscaras. Neste artigo, a necessidade de um novo formato de dados curvilíneos e os objetivos do nosso grupo de trabalho serão introduzidos. Vamos discutir o progresso e o plano do grupo de trabalho. Uma versão deste artigo foi apresentada na conferência IEEE SPIE em 2021 e publicada nas atas da conferência.



