Calibre EUV

EUV, ou Extreme Ultraviolet, a litografia é uma tecnologia que utiliza um comprimento de onda de luz muito pequeno (13,5 nm) para imprimir imagens em bolachas de silício. É necessário porque o pequeno comprimento de onda do EUV, sendo menor que o tamanho da funcionalidade, torna a impressão muito mais fácil e é essencial para alcançar a resolução de padrões para nós de tecnologia de fabricação avançada como 5nm, 3nm e além.

O Calibre modela todos os efeitos ópticos EUV exclusivos, como flare, que inclui efeitos de curto e longo alcance. O calibre suporta a geração de modelo dinâmico para o método de decomposição do domínio para permitir a modelagem contínua do ângulo azimutal, aberrações, apodização e a variação da fonte através da fenda sem perda de precisão. Os efeitos da máscara 3D, como o efeito de sombreamento causado pelo absorvedor de máscara espesso e iluminação fora do eixo, que varia ao longo da fenda, podem ser compensados com precisão. O Calibre também modela o efeito da borda preta para eliminar o seu impacto de imagem através do OPC. O Calibre também está preparado para High NA EUV. O Calibre está equipado com novas funcionalidades e funcionalidades para suportar óptica anamórfica desde a modelagem até OPC.

Os SRAF são provavelmente um requisito para o nó de 5 nm e abaixo na litografia EUV. Os SRAF têm um impacto positivo na inclinação do registo de imagem (ILS), reduzindo assim a Rugosidade da Borda da Linha (LER) e aumentando a Profundidade de Foco (DOF). Devido à iluminação fora do eixo do EUV e aos efeitos de sombreamento variáveis através de divisão, SRAFs assimétricos podem ser necessários nas direções horizontal e vertical, e diferentes SRAFs podem ser necessários em diferentes locais de fenda.

A solução SRAF da Calibre pode usar modelos EUV para colocação SRAF. O calibre PxOPC pode gerar SRAF assimétricos e pode ser ajustado ao DOF alvo, ILS ou uma combinação de objetivos. O Calibre nmSRAF pode gerar SRAF baseados em regras usando resultados PxOPC como modelo e pode colocar SRAF assimetricamente. O calibre NMCLSRAF proporciona flexibilidade para formas SRAF de forma livre a partir do motor de litografia inversa. Aplica sequencialmente modelos, realizando limpeza para conflitos MRC e pode gerar SRAFs curvilíneos em máscaras EUV.

O ALTO NA (Abertura Numérica) EUV é uma evolução da litografia EUV (dos atuais 0,33 NA para >= 0,5 NA) que é necessária para alcançar a resolução de padrões para o nó de tecnologia avançada. O calibre já está preparado para High NA EUV. Os produtos de modelagem e síntese de máscaras da Calibre já suportam óptica anamórfica desde a modelagem até OPC e MPC/MDP. O Calibre EUV OPC com padrões múltiplos é comprovado em fabricação e a Calibre Source Mask Optimization (SMO) também inclui funcionalidades avançadas para EUV de alto NA.

O Calibre oferece um design completo através do fluxo de fabrico para aplicações EUV. As soluções EUV da Calibre abordam os desafios fornecendo:

Suporte completo de modelagem para EUV - A tecnologia de modelagem do Calibre suporta totalmente todos os efeitos EUV, incluindo flare, efeito de borda preta e efeitos de máscara 3D.

Pacote abrangente de produtos - Todos os efeitos modelados são contabilizados em produtos Calibre como Calibre PxSMo, Calibre PxOpc, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF e Calibre OPCverify, que são usados em tapeout hoje.

Processamento Hierárquico de Dados - O fluxo Calibre EUV é arquitetado de acordo com a hierarquia principal enquanto utiliza modelos EUV globais completos, permitindo um fluxo OPC rápido e preciso.

Processamento de Dados Curvilíneos - As Solutions de preparação de dados curvilíneas Calibre podem ser ativadas em todo o fluxo de tapeout da máscara EUV.

Aproveite a IA para a precisão do próximo nó - O Calibre EUV inclui técnicas avançadas de aprendizagem automática para acelerar a síntese de máscaras, oferecendo melhorias significativas no tempo de execução, mantendo a qualidade da litografia.