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Calibre EUV
Suporte abrangente para enfrentar os desafios únicos de EUV com alto RNA, como óptica anamórfica e modelagem 3D de máscara para contabilizar os efeitos de sombreamento.
Calibre Computational Lithography
A procura insaciável por circuitos integrados (CIs) continua a conduzir dimensões críticas mais pequenas. Os processos de fotolitografia, incluindo ultravioleta extremo (EUV), apresentam cada vez mais complexidade e volume de dados. As nossas soluções de litografia computacional permitem uma activação tecnológica económica.
Produtos de Calibre Computational Lithography
Tanto os desafios litográficos como a complexidade computacional associada aos nós de processo avançados criam a necessidade de capacidades avançadas em software e hardware de litografia computacional. A solução Calibre oferece a melhor precisão, velocidade e custo de propriedade.
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Calibre nmOPC
Proximidade óptica densa e correção de processo para permitir a fabricação profunda de submícron.
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Calibre nmSRAF
Insere funcionalidades de assistência de sub-resolução (SRAF) num design.
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Calibre OPCverify
Poderosa simulação de chip completo e análise litográfica.
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Calibre WORKbench
A GUI costumava lançar uma grande variedade de aplicações e visualizar os resultados.
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Calibre NMModelFlow
Motor de calibração altamente escalável para modelos ópticos, resistentes e gravados.
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Calibre PxOpc
Correção óptica de proximidade rápida baseada em pixels inversos.
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Calibre pxSMO and RET Selection
GUI fácil de usar para otimização da fonte de iluminação.