Solutions de Calibre IC Manufacturing

Uma solução completa de ponta a ponta, incluindo todas as etapas curvilíneas de preparação de dados, desde o retargeting até SRAF, OPC, MPC e MDP que aborda as necessidades de geração de máscara curvilínea de aplicações especializadas (SiPH) e designs de memória.

Capacitação tecnológica para processos de fotolitografia, incluindo ultravioleta extremo (EUV). As ferramentas de litografia computacional de calibre oferecem maior precisão, velocidade e custo de propriedade reduzido.

Permite a conversão do formato de dados da máscara e tarefas de verificação para a fabricação de máscaras, incluindo os mais recentes formatos de máscara multi-feixe numa plataforma Calibre totalmente compatível.

Fornece otimizações para escritores de máscara de feixe eletrônico. As novas capacidades de correcção e modelagem melhoram a linearidade e uniformidade da dimensão crítica da máscara para nós avançados.

Enfrente os desafios do rendimento da produção e da gestão da utilização do sistema, ao mesmo tempo que alcança tempos de resposta rápidos, apesar da complexidade e dos volumes de dados cada vez maiores.

Melhora o rendimento do produto e fornece uma rampa mais rápida estruturando e analisando grandes quantidades de dados, criando modelos preditivos de machine learning e gerando análises acionáveis.

O Calibre oferece uma solução completa de infraestrutura de fluxo que oferece tempo de execução e consistência superiores para cumprir os requisitos de fabrico de dispositivos de memória e produtos com matrizes altamente repetitivas.

O conjunto de ferramentas Calibre DFM inclui ferramentas de análise de rendimento, capacidade de impressão e validação de desempenho para melhorar o rendimento e otimizar projetos de IC.