Na última década, a tecnologia fotônica tem sido uma tecnologia emergente para telecomunicações ópticas e interconexões ópticas em microeletrônica. Como resultado, uma grande diversidade de metodologias de design fotônico se fundiu com escalas e formas muito desafiadoras. A fabricação dessas formas fotônicas curvas e críticas requer técnicas avançadas de aprimoramento de resolução (RET), incluindo técnicas de litografia inversa (ILT) com litografia de imersão de 193 nm. Neste artigo, investigamos os desafios de fabricação de vários dispositivos fotônicos usando soluções avançadas de ILT e o impacto da inserção de SRAF no fornecimento de boa qualidade litográfica, incluindo erro de posicionamento de borda (EPE), banda PV e rugosidade de borda de linha (LER). Demonstraremos como nossas soluções Calibre ILT permitem a fabricação dos projetos fotônicos mais desafiadores.
