Correção do processo de máscara (MPC) para designs curvilíneos
O Calibre NMCLMPC executa a Correção do Processo de Máscara (MPC) para layouts de entrada com polígonos curvilíneos, como aqueles produzidos pela Inverse Lithography Technology (ILT) OPC, bem como estruturas fotônicas de silício.
Fragmentação inovadora baseada em curvatura
A fragmentação baseada em curvatura no motor Calibre NMCLMPC determina o comprimento do fragmento de borda com base na curvatura local e fornece uma saída viável para a correção curvilínea do MPC. Esse recurso tenta co-otimizar o tamanho do arquivo, a precisão e o tempo de execução para a correção do processo de máscara curvilínea.
Opção para alcançar uma convergência rápida
O Calibre NMCLMPC pode ser usado com pré-polarização baseada em curvatura para permitir uma convergência rápida para MPC curvilíneo. O método de pré-polarização baseado em curvatura reduz o número de iterações necessárias sem degradar a precisão da correção e economiza tempo de execução.
Capacidade de correção simultânea
O Calibre NMCLMPC pode corrigir formas curvilíneas e retangulares de uma só vez, aplicando as mesmas regras de uma receita padrão às formas retangulares.
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Serviços de consultoria Calibre
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Projeto e fabricação do Calibre IC
O conjunto de ferramentas Calibre oferece verificação e otimização de IC precisas, eficientes e abrangentes em todos os nós de processo e estilos de design, minimizando o uso de recursos e os cronogramas de eliminação.