W ostatniej dekadzie technologia fotoniczna była nową technologią telekomunikacji optycznej i połączeń optycznych w mikroelektronice. W rezultacie duża różnorodność metodologii projektowania fotoniki połączyła się z bardzo trudnymi skalami i kształtami. Tworzenie takich krzywych i krytycznych kształtów fotonicznych wymaga zaawansowanych technik poprawy rozdzielczości (RET), w tym technik litografii odwrotnej (ILT) z litografią immersyjną 193 nm. W niniejszym artykule badamy wyzwania produkcyjne kilku urządzeń fotonicznych przy użyciu zaawansowanych rozwiązań ILT oraz wpływ wstawiania SRAF na zapewnienie dobrej jakości litu, w tym błąd umieszczenia krawędzi (EPE), PVBand i chropowatość krawędzi linii (LER). Pokażemy, w jaki sposób nasze rozwiązania Calibre ILT umożliwiają produkcję najbardziej wymagających projektów fotonicznych.
