Generowanie krzywoliniowych kształtów masek w optycznej korekcji zbliżeniowej (OPC) zamiast czystych prostokątnych kształtów staje się coraz bardziej realistyczne jako metoda poprawy wydajności litografii waflowej. Główną zaletą stosowania kształtów krzywoliniowych jest ulepszone okno procesu, co oznacza, że obraz waflowy jest mniej wrażliwy na warunki dawki i ostrości podczas ekspozycji. Dzięki zwiększonej mocy obliczeniowej najnowszych klastrów o wysokiej wydajności i dostępności wielowiązkowych zapisowaczy masek (MBMW) te korzyści z litografii waflowej można osiągnąć w obecnie rozwijanych węzłach technologicznych.
Bardzo praktycznym wyzwaniem w produkcji masek o krzywoliniowych kształtach jest dostępność niezawodnych kontroli reguł masek (MRC). Silnik OPC musi nie tylko generować kształty, które można wyprodukować, ale sklep z maskami potrzebuje również metody sprawdzania, czy przychodzące dane maski można wyprodukować. W przypadku krzywoliniowych kształtów masek jest to trudniejsze niż w przypadku prostokątnych kształtów masek, ponieważ proste sprawdzanie szerokości i przestrzeni nie jest już wystarczające.
W tym artykule omawiamy obszerny zestaw limitów MRC i demonstrujemy skuteczność silnika MRC działającego na krzywoliniowych danych wejściowych. Zastosowane tutaj Rules obejmują minimalną szerokość odsłoniętych elementów, minimalną przestrzeń między odsłoniętymi elementami, minimalną krzywiznę kształtów wypukłych i wklęsłych, a także minimalną powierzchnię odsłoniętych elementów.
